한·중·일 특허청장 지재권협력을 위한 연쇄회담 개최

아주경제 박정수 기자 = 특허청은 역내 특허분야 협력강화를 위해 오는 7~9일 일본 오다와라에서 한·일, 한·중, 한·중·일 특허청장 회담을 연쇄 개최한다고 6일 밝혔다. 

먼저 7일에는 ‘한·일 특허청장회담’이 열린다. 이번 회담에서는 공동 선행 기술조사를 위한 심사관 교류 협력 강화, 특허 데이터의 교환 및 대민보급 확대 등이 논의되며, 또 ‘지리적 표시 및 지역 단체표장 목록의 교환 대상 확대’에 관한 협력각서가 체결될 예정이다. 교환된 목록은 양국의 지리적 표시 보호를 위한 참고자료로 상호 활용된다.

8일 오전에는 ‘한·중 특허청장회담’이 열린다. 특히, 이번 회담에서는 한국과 중국 간의 특허공동심사(CSP) 추진에 관한 합의가 이루어질 예정이다.

특허공동심사(CSP)는 양국에 제출된 동일한 특허출원에 대해 양국 특허청이 각자의 선행기술 검색정보를 공유하고, 해당 출원에 대해서는 다른 출원보다 더 빨리 심사해주는 제도다. 제도가 본격 시행되면, 심사결과의 국제적인 일관성이 증진되는 한편, 기업 입장에서는 특허권을 조기에 확보할 수 있는 효과를 가져 오게 된다.

8일 오후에는 ‘한·중·일 특허청장회담’이 개최된다. 3국 특허청장은 특허, 디자인, 정보화 등 각 분야의 협력성과를 승인하고, 내년도 협력 방향에 대해 논의할 예정이다. 또한, 3국 협력의 효율성 제고를 위하여 기존의 협력체계를 정비하는 방안에 대해서도 협의할 계획이다.

9일에는 '지재권의 행정·사법적 보호'를 주제로 사용자 심포지엄이 개최된다. 3국의 판사 및 심판관 등이 패널로 참여하는 가운데, 역내 지재권 보호에 관한 최신 동향 등이 발표될 예정이다.

최동규 특허청장은 “전 세계 특허출원의 57%, PCT 국제특허출원의 41%가 한·중·일 3국에서 출원되고 있다. 국제공조를 통해 우리 기업이 해외에서 더욱 편리하게 지재권을 획득하고, 획득된 지재권은 강하게 보호받을 수 있도록 역내 협력을 강화해 나갈 계획”이라고 전했다.