삼성전자가 지난해 시설투자로 약 26조9000억원을 집행했다고 30일 밝혔다. 사업별로는 반도체 22조6000억원, 디스플레이 2조2000억원 수준이다.
메모리 반도체의 경우 지난해 공정 전환에 집중하면서 전년 대비 투자가 감소했다. 파운드리는 극자외선(EUV) 7나노 등 미세 공정을 적용하기 위한 설비 증설로 투자가 늘었다. 디스플레이의 경우는 2018년 대비 중소형 A4라인 투자가 끝나 투자가 감소했다.
올해 투자는 수요 변동 상황에 맞춰 탄력적으로 대응할 계획이라고 삼성전자는 설명했다. 메모리의 경우 중장기 수요 대응을 위한 인프라 투자는 지속하고, 설비투자는 시황 회복 추이에 맞춰 대응할 방침이다.
시스템반도체와 디스플레이, 인공지능(AI), 5세대 이동통신(5G)과 같은 미래 성장 사업의 중장기 경쟁력 강화를 위한 투자는 계획대로 진행할 예정이다.
한편 이날 삼성전자는 지난해 4분기 실적으로 연결 기준 매출 59조8800억원, 영업이익 7조1600억원의 실적을 기록했다고 밝혔다. 지난해 같은 기간과 비교해 매출은 1.1% 올랐으나 영업이익은 33.7% 감소했다. 연간 기준으로는 지난해 매출 230조4000억원, 영업이익 27조7700억원을 기록했다. 연간 실적 역시 전년과 비교해 각각 5.5%, 52.8% 줄어들었다.
메모리 반도체의 경우 지난해 공정 전환에 집중하면서 전년 대비 투자가 감소했다. 파운드리는 극자외선(EUV) 7나노 등 미세 공정을 적용하기 위한 설비 증설로 투자가 늘었다. 디스플레이의 경우는 2018년 대비 중소형 A4라인 투자가 끝나 투자가 감소했다.
올해 투자는 수요 변동 상황에 맞춰 탄력적으로 대응할 계획이라고 삼성전자는 설명했다. 메모리의 경우 중장기 수요 대응을 위한 인프라 투자는 지속하고, 설비투자는 시황 회복 추이에 맞춰 대응할 방침이다.
시스템반도체와 디스플레이, 인공지능(AI), 5세대 이동통신(5G)과 같은 미래 성장 사업의 중장기 경쟁력 강화를 위한 투자는 계획대로 진행할 예정이다.
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