[K-반도체, ASML 동맹] 삼성전자·SK하이닉스, ASML 최신 노광장비 공급망 안정화 기대

'하이 NA EUV' 추가 공급·삼성과 공동연구소 설립 논의 탄력

푸케 CEO "화성서 긴밀한 협력과 신속한 기술 지원 가능할 것"

12일 경기도 화성시에서 열린 ASML 화성캠퍼스 공식 개관 기념행사 모습. [사진=ASML코리아]

글로벌 반도체 장비 업계 최강자 ASML이 국내에 새 둥지를 틀고 한국 반도체 산업과 동맹 수준의 협력 관계 구축을 도모한다. 삼성전자와 SK하이닉스는 ASML 최신 장비를 앞세워 반도체 슈퍼사이클(초호황) 수혜를 극대화한다는 방침이다. 

12일 ASML은 경기도 화성시 송동 일대에 '화성캠퍼스'를 열고 삼성전자·SK하이닉스 등 국내 기업들과 동반자 관계 강화에 나섰다.

ASML은 반도체 초미세공정 구현에 필수적인 '극자외선(EUV)' 노광장비를 세계에서 유일하게 생산하는 회사로, 삼성전자·SK하이닉스와 대만 TSMC 등 글로벌 반도체 기업을 고객사로 두고 있다. ASML이 다목적 시설을 갖춘 캠퍼스를 한국에 구축한 것은 앞으로 사업의 핵심 축이 한국에 있다는 것을 의미한다.

삼성전자와 SK하이닉스 입장에서 ASML은 '귀하신 몸'이다. 차세대 반도체 초미세공정 구현에 필수인 '하이 NA(High Na) EUV' 장비를 공급할 업체이기 때문이다. 하이 NA EUV는 기존 EUV보다 해상도를 크게 향상한 차세대 노광 장비로, 대당 가격이 5000억원을 넘는다. 2나노 이하 시스템반도체와 10나노 이하 메모리 반도체 생산에 필수적으로 필요하며 연간 생산 가능 물량이 7~8대에 불과해 장비 확보를 위한 경쟁이 매우 치열하다.

삼성전자는 올해 초 파일럿용 하이 NA를 경기도 화성캠퍼스에 반입하며 내년 파운드리 승부처인 2나노(㎚)급 초미세 공정 기술력을 키워왔다. 내년에는 양산용 하이 NA도 본격적으로 구축해 차세대 D램 개발에 속도를 올리겠다는 목표다. 

SK하이닉스 역시 ASML 장비 추가 반입을 검토하고 있다. SK하이닉스는 지난 9월 양산용 하이 NA 한 대를 국내 처음으로 경기도 이천 M16팹에 적용했다. SK하이닉스 관계자는 "하이 NA가 최첨단 D램의 성능과 원가 가격을 좌우하기 때문에 향후 추가 도입을 통해 반도체 기술 혁신을 앞당길 것"이라고 했다.

삼성전자와 SK하이닉스는 인공지능(AI) 시대가 본격 개화한 글로벌 반도체 시장에서 전력 질주 중이다. 삼성전자는 대만 TSMC와 파운드리 격차를 좁히는 동시에 고대역폭메모리(HBM) 경쟁력을 끌어올리고 있다. SK하이닉스는 글로벌 1위 HBM 업체 지위를 유지하는 데 주력 중이다. 두 회사 모두 ASML과의 긴밀하고 신속한 협력이 필요한 셈이다. 개관식 참석차 방한한 크리스토프 푸케 ASML 최고경영자(CEO)가 행사 전후로 전영현 삼성전자 부회장, 곽노정 SK하이닉스 사장과 회동한 것도 이 때문이다.

한편 삼성전자와 ASML 간 미래 인공지능(AI) 반도체 개발을 위한 공동 연구개발(R&D)에도 탄력이 붙을 것으로 보인다. 지난 2023년 양사는 7억 유로(약 1조원)를 함께 투자해 수도권 내 EUV 공동연구소를 설립하기로 약속한 바 있다. 이후 반도체 업황 변화로 계획이 일시 중단됐지만 최근 논의가 재개돼 연구소 부지를 물색 중인 것으로 알려졌다.