<공시> 신화인터텍, 투명 도전 필름 관련 특허 취득

아주경제 노경조 기자=신화인터텍은 8일 패턴화된 투명 도전 필름의 제조 방법 외 2건에 대해 특허를 취득했다고 공시했다. 패턴화된 투명 도전 필름의 제조 방법, 패턴화된 투명 도전성 필름의 제조 방법, 패턴화된 투명 도전성 필름의 제조 방법 등이 해당된다.

신화인터텍은 “패턴형성몰드의 일부 영역을 개방하고 그 측면은 경사진 형태의 패턴형성몰드를 통해 원하는 패턴의 도전막을 형성하는 발명”이라며 “이를 통해 인듐주석산화물(ITO) 대신에 나노미터 크기의 탄소나노튜브(CNT), 나노와이어(Nano wire)와 같은 대체소재를 적용함으로써 뛰어난 전도성 및 광학성을 지니는 장점이 있다”고 설명했다.

아울러 “신성장산업부문인 터치스크린이나 플렉서블 디스플레이 등에 기술경쟁력을 활용해 시장경쟁력우위를 확보할 계획”이라고 밝혔다.