중국 반도체 기업으로 이직하면서 국내 기업의 핵심 반도체 기술을 조직적으로 유출한 전직 삼성전자 임직원들이 무더기로 재판에 넘겨졌다.
서울중앙지검 정보기술범죄수사부(부장검사 김윤용)는 23일 삼성전자 임직원 출신 A씨 등 5명을 부정경쟁방지법 위반(영업비밀 국외누설)과 산업기술보호법 위반(국가핵심기술 국외누설) 혐의로 구속기소했다고 밝혔다.
검찰은 또 중국 반도체 기업 창신메모리(CXMT) 개발팀 직원 등 5명도 같은 혐의로 불구속기소했다.
검찰에 따르면 CXMT는 2016년 중국 지방정부와 반도체 설계회사 출자를 통해 설립된 중국 최초의 D램 반도체 회사로, 설립 직후 삼성전자 부장 출신인 A씨를 개발실장으로 영입했다. A씨는 삼성전자가 독자적으로 보유하고 있던 10나노대 D램 공정 기술을 확보하기 위해 공정별 핵심 인력들을 조직적으로 빼내는 역할을 맡은 것으로 드러났다.
A씨는 기술 유출을 은폐하기 위해 위장 회사를 설립하고 사무실을 주기적으로 옮기는 한편 출국금지나 체포에 대비한 암호까지 사용하는 등 치밀하게 범행을 준비한 것으로 드러났다.
이 과정에서 삼성전자 연구원이었던 B씨는 D램 공정의핵심 자료인 PRP(Process Recipe Plan) 정보를 자필로 베껴 적어 CXMT로 이직했고, CXMT는 당시 세계에서 유일하게 삼성전자만 보유하던 10나노대 D램 공정 기술을 사실상 통째로 확보한 것으로 드러났다.
이후 CXMT는 삼성전자 출신 인력들을 추가로 영입하며 본격적인 D램 개발에 착수했다. 개발 과정에서는 협력업체를 통해 SK하이닉스의 반도체 공정 관련 기술까지 확보한 정황도 포착됐다.
검찰은 이 같은 방식으로 국내 양대 반도체 기업의 핵심 기술을 손에 넣은 CXMT가 2023년 중국 최초이자 세계에서 네 번째로 10나노대 D램 양산에 성공했다고 밝혔다. 이는 기술 개발에 통상 수년 이상 걸리는 반도체 산업 특성을 감안할 때 정상적인 연구개발로는 설명하기 어렵다는 게 검찰 측 판단이다.
검찰은 이번 범행으로 국내 기업의 핵심 산업 기술이 대규모로 유출되고 막대한 경제적 피해가 발생했다고 보고 있다. 세계 시장 점유율 변화를 근거로 추산한 삼성전자의 2024년 매출 감소액만 약 5조원에 이르며 향후 국가 경제 전반에 미칠 영향을 감안할 때 피해 규모는 최소 수십조 원에 달할 수 있다는 분석이다.
검찰은 “국내에서 발생한 기술 유출 범행뿐 아니라 중국 현지에서 이뤄진 개발 과정까지 직접 수사해 범죄 전모를 규명했다”며 “앞으로도 국가 경제와 기술 안보를 위협하는 산업기술 국외 유출 범죄에 대해 엄정하게 대응하겠다”고 강조했다.
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