SK하이닉스, 12조원 규모 EUV 장비 도입···선단 공정 속도↑

ASML 장비 확대···총 자산 대비 약 10% 비용 투입

[사진=연합뉴스]

 

SK하이닉스가 12조원 규모의 극자외선(EUV) 장비를 도입해 선단 공정 전환에 속도를 낸다.

SK하이닉스는 네덜란드 장비업체 ASML로부터 EUV 스캐너를 도입한다고 24일 공시했다.

총 취득 금액은 약 11조9496억원으로 2024년 말 기준 자산총액의 9.97%에 해당하는 규모다. 거래는 2027년 12월까지 약 2년에 걸쳐 진행되며 장비 도입과 설치·개조 비용이 포함된 금액이다.

이번 투자는 고대역폭메모리(HBM)를 포함한 인공지능(AI) 메모리 수요 증가와 함께 범용 D램 수요 확대에 대응하기 위한 조치로 풀이된다. 서버·모바일 등 전방 산업에서 범용 메모리 수요도 꾸준히 증가하고 있는 점을 고려해 공급 안정화에 주력한다는 계획이다.

특히 EUV 장비 도입을 통해 6세대(1c) 공정 전환을 가속화하고 AI 메모리 제품 포트폴리오를 확대할 방침이다. 차세대 HBM은 물론이고 DDR5, LPDDR6 등 주요 D램 제품군에도 적용될 예정이다.

앞서 SK하이닉스는 1c DDR5 D램과 LPDDR6 제품을 잇달아 개발하며 미세공정 경쟁력을 확보했다. 해당 공정은 생산성과 전력 효율을 개선하고 데이터 처리 속도를 높이는 것이 특징이다.

SK하이닉스는 청주 M15X 공장의 생산능력을 조기에 극대화하고 2단계 클린룸을 기존 계획보다 2개월 앞당겨 조기 가동에도 집중하는 모습이다. 

내년 2월 클린룸 가동을 시작할 예정인 용인 1기 팹의 생산 기반 역시 신속히 확충한다는 계획이다.